商品编码 | 84862022.00 |
商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 |
申报要素 | 1:品名;2:品牌类型;3:出口享惠情况;4:用途;5:功能;6:品牌(中文或外文名称);7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他; |
法定第一单位 | 台 |
法定第二单位 | 千克 |
最惠国(%) | 0 |
进口普通(%) | 30% |
出口从价关税率 | - |
增值税率 | 13% |
退税率(%) | 13% |
消费税率 | 0% |
商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置物理气相沉积装置(PVD) |
英文名称 | Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis |
HS编码 | 商品信息 |
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8486202200.999 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置(物理气相沉积装置(PVD)) |
HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
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